产品概况大平台工业显微镜，配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰，衬度好。是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为高级工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。
1．采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2．拓展了物镜的复用技术，无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法，并在每一观察法中均提供高清晰的图像质量。
3．采用非球面Kohler照明，增加观察亮度。
4．WF10X（Φ25）超大视野目镜，长工作距离明暗场金相物镜。
5．可插DIC微分干涉装置的转换器。
1．采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2．拓展了物镜的复用技术，无限远物镜与所有观察法相兼容包括明暗视野法、偏光法，并在每一观察法中均提供高清晰的图像质量。
3．采用非球面Kohler照明，增加观察亮度。
4．WF10X（Φ25）超大视野目镜，长工作距离明暗场金相物镜。
5．可插DIC微分干涉装置的转换器。
技术规格
金相显微镜型号
光学系统 UIS 无限远光学系统
光路设计 反射光路设计
观测方式 明/暗场观测、偏光观测、微分干涉（DIC）观测
放大倍数 50X-1000X（可扩展至2000X）
目镜 超宽场、超大视场目镜10× 视场直径达到￠25mm
物镜 平场无限远长工作 距离明暗场物镜：（标配四个）
5×/0.1B.D/W.D.29.4mm
10×/0.25B.D/W.D.16mm
20×/0.4B.D/W.D.10.6mm
40×/0.60B.D/W.D.5.4mm
5×/0.1B.D/W.D.29.4mm
10×/0.25B.D/W.D.16mm
20×/0.4B.D/W.D.10.6mm
40×/0.60B.D/W.D.5.4mm
转换器 带微分干涉（DIC）插口的四孔转换器
偏光装置 检偏镜可360度转动，起偏镜、检偏镜均可移出光路
滤光装置 插板式滤色片（绿、蓝、中性）
聚光镜 NA1.25阿贝聚光镜带可变光栏和滤色片
数码系统 300万像素彩色CCD系统，实时视频输出、数码拍照、各种图像处理功能
图像软件 可实现对显微图像的线宽、线距、角度、两点间距离、圆、平行线间距离、任意曲线长度任意多边形等的几何尺寸测量。精度可达±1μm. 可拍照数码照片进行分析、存储、处理等
调焦系统 具有粗、微调同轴调节，行程40mm，微动格值0.002mm
载物台 二维移动载物台，低位同轴手轮操作
X、Y移动范围：250mm×250mm；平台尺寸： 350mm×310mm
X、Y移动范围：250mm×250mm；平台尺寸： 350mm×310mm
照明系统 落射照明：带孔径光栏和视场光栏，卤素灯12V/100W，
AC85V-230V亮度可调节
AC85V-230V亮度可调节
选 配
金相分析软件及
数码彩色CCD系统 全套共380多个模块主要用途
数码彩色CCD系统 全套共380多个模块主要用途
大平台检测金相显微镜作为高级工业显微镜还可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛应用于太阳能电池硅片制造业、半导体晶圆制造业、电子信息产业、治金工业；还应用于工厂、研究机构、高等院校等。
