HA高效镀铬添加剂工艺

HA高效镀硬铬添加剂 加入后，电流效率提高2-3倍，可大大提高阴极电流的利用率及镀槽的产量，也可大电流镀铬，实现高速镀铬，可用于连续镀厚达1mm镀层，外观平滑光亮。广泛用于活塞环、活塞、缸套、气门、曲轴、减震杆等汽车零部件、玻璃模具耐磨镀硬铬。HA-Ⅰ硬铬电镀工艺 (HA高效镀铬添加剂工艺) 一 特点 1、高阴极电流效率，可达22~27%。 2、高沉积速度，一般是传统镀铬的2~3倍。 3、不会腐蚀阴极低电流密度区的底材。 4、镀层平滑，细致光亮。 5、高镀层硬度达HV900~1200。 6、高微裂纹数达1000条/寸。 7、镀层厚度均匀，有良好的分散能力。 8、镀液维护容易，控制简单。 9、无固体添加之铬尘和溅水现象。 10、无阳极腐蚀，勿需使用特殊阳极。 二、镀液配方和操作条件 成份及物理参数 范围 标准 铬酐 220~275克/升 250克/升 硫酸 2.4~4.0克/升 2.5克/升 温度 58~68 62℃ 阴极电流密度 15~75 A/分米2 60A/分米2 阳极电流密度 15~35A/分米2 30A/分米2 三、镀液的配制 铬酐浓度 HA—IQ CrO3 250克/升 20ml/l 1、在槽中放入2/3体积的水，加入计算好的铬酸、硫酸，并充分搅化。 2、按上表所需的HA—ⅠQ加入镀槽中。 3、添加去离子水，至所需之液位高度。 4、加热至55~60℃。 5、分析硫酸浓度，并调整至工艺规范。 6、电解4~6小时。 7、开始作业。 四、沉积速率（参考） 电流密度（安培/平方分米） 沉积速率（微米/小时） 30 20~30 45 40~50 60 50~70 75 70~90 注：沉积速率会随温度降低而稍微上升，但是光亮范围会相对变窄。 五、转缸与前处理 由一般传统的硬铬镀液转为HA—I的程序非常简单，只须将镀液送交本公司化验，经确定无机杂质不超过7.5克/升，同时不含氟化物、稀土，则本公司将协助客户将镀液转成HA－I之工艺。 HA—I之前处理与一般传统硬铬电镀相同，无需经过特殊程序的处理。 六、设备 镀槽（缸）：铁槽内衬软式PVC槽衬或其他认可材料如Koroseal均可。 阳 极：含7%锡的铅阳极，其他如铅锡、铅锑阳极亦可使用。 整 流 器 ：输出功率须可达到9~15伏特较为适当，同时输出电流之波纹应在5%以下。 温度控制 ：热交换器或冷却盘管，建议使用钛管或金属管披覆铁弗龙（Teflon）或碳氟化物（PVDF）为佳。 循环搅拌：良好的镀液循环，可促进镀液中化学成分和热分布均匀，循环过滤机材料建议使用不锈钢或适当的防腐蚀塑料。 七、添加剂的作用与补给 HA—Ⅰ（补）以每1000安培小时6毫升补加，溶液蒸发量大，带出量大补加偏高， 反之偏低。 铬酸以每1000安培小时添加120~150克.。